淄博厂房净化|山东康德莱净化设计更专业|厂房净化控制柜
净化工艺系统广泛应用于电子制造车间、精密机械制造车间、食品加工车间、手术室、净化病房、实验室等，根据工艺需求智能控制系统对环境进行精密调节，同时节省不必要浪费的能源，保证受控区域温湿度、净化度及其他设定值的稳定，从而达到由中央监控计算机实现系统所有设备的集中监视和远程控制，节约管理成本。
洁净度级别浮游菌cfu/m3沉降菌（?90mm）Cfu/4小时表面微生物接触（?55mm）Cfu/碟5指手套Cfu/手套A级＜1＜1＜1＜1B级10555C级1005025―D级20010050―2015版GMP规定洁净室洁净度各级别－悬浮粒子数洁净度级别悬浮粒子所允许数/立方米静态动态≥0.5μm≥5.0μm≥0.5μm≥5.0μmA级352020352020B级352029352000290
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，电子厂房净化方案，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。
本公司生产或代理销售的净化产品主要有：
1、初效、中效、高效空气过滤器，高效送风口，静压箱，风量调节阀，防火阀，电动阀，止回阀，余压阀，散流板，铝合金回风口，威海厂房净化，消声直管、弯管。
2、净化工作台，传递窗，采样车，层流罩，除尘器机组，厂房净化工程，风淋室，臭氧发生器，空气自净器，净化灯具、应急灯具，净化保管柜，洁净存衣柜，老化试验箱，厂房净化控制柜，洁净烘干箱，不锈钢洁净地漏，组合式空调箱，风机箱，医疗器械柜、药品柜等。
3、系列净化设备电器控制器，净化门、风淋、传递窗电子互锁等。净化离心风机，工作台、风淋等净化设备专用风机。及各种净化配件。
4、复合彩钢板系列，表皮材料：彩色涂层钢板、不锈钢板、镀锌板等；夹芯材料：聚苯乙烯、聚氨酯、岩棉、石膏、蜂窝等。
注：系列净化设备可根据客户要求采用不锈钢、钢板烤漆、彩钢板材质及非标准尺寸订货！
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