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空气处理系统工程范围：净化空调机组、工艺性恒温恒湿机组、舒适性空调及机电设备安装工程。公司所设计、安装的工程项目具有节省能源、保护环境、提高工作效率、高精度工艺环境的特点。它在全面质量管理的体系下，采用先进的VAV空气调节系统、VWV变水流量系统和PLC智能控制技术，电子厂房净化设计，使用世界名牌元件集成，确保工程质量和节能的特点。拥有全套专业施工工具，检修、调试仪器、仪表和高水平的专业技术人员，电子厂房净化方案，现有职工50多人，高、中、低技术人员18名。诚信可靠、品质卓越、智能高效的特点，是您的合作伙伴。
洁净室就是洁净室。但现在给洁净室赋予了特殊的含义，国际标准化组织（ISO）的14644-1标准对洁净室是这样说明的：该洁净室的悬浮粒子浓度受控，其建造和使用方式是使进入、产生、滞留于室内的粒子少；室内其他参数，比如温度、湿度、气压、按需要受控。该定义的前半部分基本上说明什么是洁净，这是一个使粒子的进入、产生、滞留少化的房间。要实现这一点，邢台厂房净化，首先，要对极大量的送风经高效过滤器过滤。这种送风的目的在于：（1）稀释并清除室内人员和设备散发出的粒子有害物质；（2）向房间加压，确保脏空气不会流入洁净室。其次，洁净室的建筑材料不产生粒子且便于清洁。后，洁净室人员使用服装罩住身体，使他们散发的粒子和微生物少。这些措施及其他使用洁净室引入、产生、滞留的污染降至少的类拟措施。洁净室还可以控制温度、湿度、声音、照明、振动。但这些特性并非洁净室所专有。
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，厂房净化控制柜，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。
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